ホーム > プレスルーム > 2005年 > フラーレンを使用した半導体向け高性能nano研磨剤の開発に成功 プレスルーム 2005年12月26日 フラーレンを使用した半導体向け高性能nano研磨剤の開発に成功 フラーレンを使用した半導体向け高性能nano研磨剤の開発に成功(32KB) ニュースリリースに関するお問い合わせ先 三菱商事株式会社 広報部 報道チーム TEL:03-3210-2171 / FAX:03-5252-7705